VAC-W系列HMDSyuchuli真空烤箱用于在涂胶前对晶片进行预处理。设备由腔体、真空、加热、充氮、加液及控制等系统组成。通过多次预抽真空，150oC热氮加热，既能达到使硅片表面干燥、洁净的效果，又能够有效的防止硅片的氧化和杂质的扩散，并且可以通过加液系统在硅片表面开成HDMS保护膜，从而使硅片具有良好的涂胶性能。和手工涂布HMDS相比，具有重复性好，节省药液，环保，对人体无害的显著优点；也可用于晶片其它工艺的清洗。控制采用PLC，人机界面采用触摸屏，具有可靠性高，操作方便、直观等特点。
标准功能：

u LCC临时高达500°F（260°C）的LCD温度。高达662°F（350°C）

u 真空度可达1托（133Pa）

u 不锈钢内部和外部，所有内部接缝连续焊接在绝缘侧，以保护腔室免受污染

u 制具有大型LCD显示屏，集成数据记录功能和USB端口，可实现简单的烤箱设置和数据导出

u Modbus通信连接，用于远程监控和记录

u 循环结束和高限制声光报警

u 可编程门锁

u 开放式控制面板

选项：

u 数据采集软件

u 无油真空泵

u 自动HMD添加装置

u 符合CE标准